2007
Erfolgreiche Massenproduktion von „Triple Junction“-Dünnfilm-Solarzellen


“Triple Junction“-Dünnfilm-Solarzelle (Prototyp)

Durch die dreischichtige Bauweise (zwei Schichten amorphes Silizium und eine Schicht mikrokristallines Silizium) anstatt der herkömmlichen zweischichtigen Zelle (eine Schicht amorphes Silizium, die andere mikrokristallines Silizium), wurde der Umwandlungswirkungsgrad für Solarzellen von 11% auf 13% erhöht, während der Umwandlungswirkungsgrad für Solarmodule von 8,6% auf 10% erhöht wurde. Sharp gelang es, die Technologie für die Massenproduktion von „Triple Junction“-Dünnfilm-Solarzellen zu entwickeln, wobei der Umwandlungswirkungsgrad sowohl für Solarzellen als auch für Solarmodule erhöht wurde.

Durch die Bereitstellung von zwei Schichten amorphen Siliziums wird die Spannung stark erhöht, und durch das Hinzufügen der dritten Schicht mikrokristallinen Siliziums wird die Lichtminderung (Abnahme des Umwandlungswirkungsgrads) reduziert, so dass der höchste Umwandlungswirkungsgrad in der Branche erzielt wird: ein Umwandlungswirkungsgrad von 13% für Solarzellen und ein Umwandlungswirkungsgrad von 10% für Solarmodule.